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マイクロ波プラズマ源（SURFATRON）⁄ マイクロ波ダウンストリーム源
SAIREM社が提供するSURFATRONは、プラズマの生成に不可欠な安定性、生産性、効率性を満たすマイクロ波プラズマ源です。励振原子、分子、ラジカル、イオン、光量子に応用できます。マイクロ波ダウンストリーム源は純粋かつ安定した電子プラズマを生成します。パーツは取り外し可能、石英管のサイズは選択可能。性能と使いやすさを両立したダウンストリーム源です。
※SAIREM S.A., http://www.sairem.com
1978年、フランスに設立されたSAIREM社は研究・工業用のマイクロ波/高周波システムやプラズマ源の 開発・製造メーカーです。
1978年、フランスに設立されたSAIREM社は研究・工業用のマイクロ波/高周波システムやプラズマ源の 開発・製造メーカーです。
マイクロ波プラズマ源 (SURFATRON）
マイクロ波プラズマ源（SURFATRON)は、非共振モード放電により安定したプラズマを生成します。またインピーダンスの調整により高い生産性と、ほぼ0％の反射電力で高効率性を実現しています。元素分析、光学分光、表面処理、プラズマ化学に利用できます。
特長
- 非共振モードの放電により優れた安定性を実現
- インピーダンスの調整が可能なので生産性が高い
- 反射電力はほぼ0％の高効率性
- 元素分析、光学分光、表面処理、プラズマ化学に利用
仕様
| 周波数 | 2.45GHz |
|---|---|
| 出力 | 300Wまで |
| 放電管直径 | 0.5〜6mm(内径） 8mm(最大外径） |
| ガス | Aｒ、Ｈｅ、Ｈ2、02、Ｎ2、それらの混合ガス |
| 圧力 | 100mTorr〜大気圧の4倍 |
マイクロ波ダウンストリーム源
マイクロ波ダウンストリーム源は、純粋で安定した電子プラズマを生成します。コンパクト設計でパーツは取りはずし可能。石英管のサイズも選択できます。プラズマによるエッチング、蒸着、薄膜、表面処理などにご利用ください。
特長
- 2種類のコンパクトモデル
〔モデル1〕 3スタブチューナ、ダウンストリーム源、スライド式短絡回路で構成、石英管直径は10〜50mm
〔モデル2〕 モデル1と同タイプで各パーツの取り外しが可能、
石英管直径は10〜50、60、80、100mm、それ以上 - 低リップル（1％以下）で300W〜6kWまでの電源を採用
- 石英管によるマイクロ波の遮断および冷却が可能
- インターフェイスのカスタマイズ化、附属コンポーネントもご用意（※石英管は装置のパーツに含まれません）
- エッチング、蒸着、薄膜、表面処理に利用