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大電力高圧パルストランス

スタンガネス社(Stangenes Industries, Inc.)の高圧パルストランスは、シリコンバレーのスタンフォード加速器センター(SLAC)で開発された高圧パルスの技術を基にした信頼性の高い製品です。

特にハイパワークライストロンパルストランスは、スタンフォ−ド加速器センタ−(SLAC)でも使用されており、7μsecのパルス幅で270KV、75MWの高圧パルスをクライストロンに供給することが可能です。すべて形状・サイズを自由にカスタムオーダーできます。

その他、スタンガネス社が提供する、各種の電流モニタ・チャ−ジングトランス・容量型電圧分圧器等は、半導体産業だけでなく、マイクロ波装置・X線装置・医療機器・通信機等の分野で幅広く応用されています。

※Stangenes Industries, Inc. http://stangenes.com
スタンガネス社は、高圧パルストランス及び電流モニタ用トランス、絶縁トランス等のメ−カ−です。

以下の高圧パルストランスは、すべて形状・サイズを自由にカスタムオーダーできます。お気軽にお問い合わせください。

ハイパワークライストロンパルストランス

ハイパワークライストロンパルストランス
  • 7μsecのパルス幅で270kV、75MWの高圧パルスをクライストロンに供給します。
  • 精密な巻線構造によりパルスの立ち上がり時間は、わずか0.5μsecです。(フラットトップリップルは0.15%以下)
  • テーパーが付いた二次巻線が、漏れインダクタンスを従来型のトランスの半分に抑えます。
  • 二重巻き構造の二次巻線からヒーター電源をクライストロンに供給します。
  • 装置はコンパクトサイズで、磁気コアを直流にすることでさらに効率がアップします。

ハイパワークライストロンパルストランスは、米国、スタンフォード加速器センター(SLAC)で使用されています。

マグネトロン/ガンパルストランス

マグネトロン/ガンパルストランス
  • 3.5μsecのパルス幅および45kV、4.5MWの高圧パルスでビーム電力をマグネトロンにパルス電圧を電子銃に供給します。
  • 電流パルスのリップルを大幅に軽減します。
  • タンク内部には、マグネトロン電流モニタとバイパスキャパシタが内蔵されています。
  • 四重巻き構造の二次巻線からヒーター電源をマグネトロンと電子銃に供給します。

パルスチャージングトランス

パルスチャージングトランス
  • パルストランスを使用し、キャパシタ間でエネルギーを伝達します。
  • 電圧112.5 kV、静電気量3μFのキャパシタから電圧1.5MV、静電気量13nFのキャパシタまで使用できます。
  • パルス反復率は0.2Hz、もしくはそれ以上の反復率も可能です。
  • 小型トランスとしては立ち上がり時間が120nsec、電圧が175kVのトリガートランスがあります。

クライストロン/ガンパルストランス

クライストロン/ガンパルストランス
  • 8μsecのパルス幅および100kV、6MWの高圧パルスでビーム電力をクライストロンにパルス電圧を電子銃に供給します。
  • トランスはタンクの中のオイルに浸水するように設計されています。
  • 二次巻線のタップから70kVの電圧が電子銃に供給されます。(この方法はガンパルストランスから電子銃にパルス電圧を供給する方法より経済的です。)
  • 低インピーダンスクライストロンが電子銃の電圧の立ち上がり時間を短縮します。(電子銃を通過する時のエネルギー消費である擬似負荷による立ち上がり時間と比較して)

タンク付きパルストランスアセンブリ

  • 二台のコンポーネントオイルタンクの中にパルストランス、ヒータートランス、バイパスキャパシタ、デスパイキングネットワーク、電流モニタ、電圧モニタ、クライストロンソケット、冷水システムが内蔵されています。
  • タンクにはクライストロンとソレノイドが取り付けられます。
  • 6μsecのパルス幅で125kV、11MWの高圧パルスを供給します。
  • 二重巻き構造の二次巻線から250Wのヒーター電源をクライストロンに供給します。