マイクロ波プラズマ源

キャビティ型マイクロ波プラズマ源 WR430 導波管接続仕様

APLC024-015（プラズマ噴出口Φ20mm）
APLC024-141（プラズマ噴出口Φ10mm）

特　長

仕　様

型式	APLC024-015、APLC024-141
用途	薄膜形成, エッチング, 分光解析, 殺菌処理, 親水処理
動作周波数	2450MHz
入力電力範囲	300W～1kW
圧力範囲	300Pa～大気圧
使用ガス	Ar
冷却方式	水冷式
プラズマ噴出口	石英管 APLC024-015(Φ20mm)、APLC024-141(Φ10mm)
接栓	WR430導波管 (WR340 への変更可能)

キャビティ型マイクロ波プラズマ源とマグネトロン電源の接続図

プラズマ源

AETのマイクロ波プラズマ源は、2.45GHｚのキャビティ型のプラズマ源で大気圧～減圧まで使用でき、カスタム対応も可能です。
N-TiO2薄膜、発光窒化ガリウムナノ粒子のプラズマ合成などに使用されています。

キャビティ型マイクロ波プラズマ源7/16 同軸コネクタ接続仕様

APLC024-359（プラズマ噴出口Φ10mm）

特　長

キャビティ型マイクロ波プラズマ源とソリッドステート/マグネトロン電源の接続図

トーチ型マイクロ波プラズマ源　S-WAVE

S-WAVE 6, S-WAVE 8 S-WAVE(PDF)

トーチ型マイクロ波プラズマ源S-WAVEは、1Paから大気圧の範囲で動作する工業用及び研究用に設計されたコンパクトなプラズマ源です。
プラズマはプラズマ源内の放電管内にて生成され、電気導体として振る舞います。直径6mmまたは8mmの放電管を使用して、反応種、励起種を効率的に生成します。

仕　様

型式	S-WAVE 6, S-WAVE 8
用途	表面活性化、元素分析、原子層堆積、ガス除去、ラジカル/反応種の生成、滅菌/消毒、細菌不活性化、付着細菌の低減、慢性創傷と感染皮膚の治療
使用周波数範囲	2450MHz±50MHz
最大入力電力	200W
使用圧力	1Pa～大気圧
使用ガス	大気圧：ArとArベース混合ガス 減圧：全てのガス対応
プラズマ噴出口	石英管 Φ6mm、Φ8mm
接栓	N型コネクタ（Female)
冷却用コネクタ	水冷：Φ6mmホース用クイックコネクタ
	空冷：Φ6mm管用クイックコネクタ
ガス用コネクタ	スウェージロック 6mmコネクタ
着火（オプション）	誘電バリア放電着火システム

S-WAVEとソリッドステート電源の接続図

S-WAVE

同軸ケーブル N型

ソリッドステート電源 GMS200W

ECRマイクロ波プラズマ源 AURA-WAVE

CPSKFDN40ECR2DP AURA WAVE(PDF) AURA-WAVEは同軸型ECRプラズマ源です。
このECRプラズマ源は電磁界解析による設計を用いることにより低圧での使用を可能とし、また自動での着火が可能です。
AURA-WAVE ECRプラズマ源は0.01Pa～1Paの圧力と数十ワットの電力でプラズマ放電が可能です。同様に、この同軸型プラズマ源は、低損失で設計され整合器を必要としません。また、ガスの圧力により反射電力が増えることもありません。プラズマ密度は、数10¹¹cm^-3以上でAr,O2,N2のガスが使用できます。
セ－ラム社製ソリッドステート電源を使用することにより1Wステップでプラズマのコントロ－ルが可能です。
ソリッドステート電源は、発振周波数を変化させることによりミスマッチングを抑え、AURA-WAVEを最適な条件で使用することができます。AURA-WAVEは広くR&Dから製造ラインにまで使用され、その用途はラジカルの生成、エッチング、PECVD、表面処理などに適しています。

特　長

マルチソ－スプラズマでは、ソリッドステ－ト電源とプラズマ源が1対1で構成されているため、各プラズマ源の入力電力を個々にコントロ－ルすることができます。このことにより、マイクロ波電力の出力がプラズマ源ごとに調整可能なため、プラズマ源間のロスを均一にすることができ、より広い表面処理が可能です。

仕　様

実装例

AURA-WAVEとソリッドステート電源の接続図

PECVDマイクロ波プラズマ源　HI-WAVE

CPSKFDN40ECR2DP HI-WAVE(PDF)

HI-WAVEマイクロ波プラスマ源は数Wの電力と約1Pa～10Paの圧力でプラズマ放電が可能です。同様にこの同軸型プラズマ源は、低損失で設計され、整合器を必要としません。また、ガスの圧力により反射電力が増えることはありません。プラズマ源をマルチ構成で使用した場合、プラズマ密度は10¹²cm^-3以上を得ることができます。セ－ラム社製ソリッドステート電源を使用することにより1Wステップでプラズマのコントロ－ルが可能です。ソリッドステート電源は、発振周波数を変化させることによりミスマッチングを抑え、HI-WAVEを最適な条件で使用することができまです。HI-WAVEは広くR&D から製造ラインまで使用され、その用途は、PECVD(ナノ結晶ダイヤモンドの合成)、大面積プロセス処理、表面処理（クリーニング等）、殺菌処理などに適しています。

特　長

マルチソ－スプラズマでは、ソリッドステ－ト電源とプラズマ源が1対1で構成されているため、各プラズマ源の入力電力を個々にコントロ－ルすることができます。このことにより、マイクロ波電力の出力がプラズマ源ごとに調整可能なため、プラズマ源間のロスを均一にすることができ、より広い表面処理が可能です。

仕　様

実装例

HI-WAVEとソリッドステート電源の接続図

シングルモ－ド型マイクロ波プラズマ源

DOWNSTREAM WR340

DOWNSTREAM WR340とマグネトロン電源の接続図

SURFAGUIDE PLASMA SOURCE

SURFAGUID PLASMA SOURCEとマグネトロン電源の接続図