プラズマ源
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キャビティ型マイクロ波プラズマ源300Pa～大気圧- 大気圧と減圧の双方に対応可能
- 同軸ケーブルでの電力供給も可能なため自由度の高い設置が可能
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キャビティ型マイクロ波プラズマ源300Pa～大気圧- 大気圧と減圧の双方に対応可能
- 同軸ケーブルで電力を供給するため取り回しが容易
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リエントラント型マイクロ波プラズマ源1Pa～大気圧- 低電力でのプラズマが可能
- 小型で真空チャンバーに取り付けが容易
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ECRマイクロ波プラズマ源0.01Pa～1Pa- チューナー不要・セルフ着火設計
- PECVD（ナノ結晶ダイヤモンドの合成）・大面積プロセス処理
- 低圧ECRプラズマ源
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PECVDマイクロ波プラズマ源1Pa～10Pa- チューナー不要・セルフ着火設計
- PECVD（ナノ結晶ダイヤモンドの合成）・大面積プロセス処理
- 高密度プラズマ源
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シングルモード型マイクロ波プラズマ源1Pa～大気圧- WR340導波管を使用したシングルモード型プラズマ源
- Φ30mm～Φ60mmまでプラズマ噴出が可能
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トーチ型マイクロ波プラズマ源1Pa～大気圧- 工業用及び研究用に設計されたコンパクトなプラズマ源
- 直径6mmまたは8mmの放電管を使用して、反応種、励起種を効率的に生成